雷射對(duì)抗高損傷閾值薄膜及雷射的防護(hù)
隨著近年來(lái)雷射技術(shù)的快速發(fā)展，雷射武器已經(jīng)逐漸由設(shè)想成為了現(xiàn)實(shí)。大功率雷射器作為定向能武器的出現(xiàn)，以及由此帶來(lái)的發(fā)射與防護(hù)等問(wèn)題都對(duì)光學(xué)薄膜提出了新的、更高的要求。

首先，在大功率雷射武器系統(tǒng)中，用於反射或透射高能雷射的光學(xué)元件上的光學(xué)薄膜需要具有高損傷閾值，保證光學(xué)元件的正常工作。當(dāng)高能雷射與武器的光學(xué)跟蹤瞄準(zhǔn)系統(tǒng)共光路時(shí)，光學(xué)薄膜還要在保證高損傷閾值的同時(shí)，滿足雷射和跟瞄系統(tǒng)工作波段的光學(xué)性能。如果在開(kāi)放式的系統(tǒng)中還要有良好的環(huán)境適應(yīng)性。這些要求隨著雷射功率的提高，實(shí)現(xiàn)的難度將大幅度上升。因此，開(kāi)展光學(xué)薄膜的雷射損傷機(jī)理研究，發(fā)展相關(guān)製備和測(cè)試技術(shù)是開(kāi)發(fā)大功率雷射武器的必經(jīng)之路。
 
其次，由於雷射武器的發(fā)展，用於偵察、跟蹤、對(duì)抗等的光學(xué)系統(tǒng)面臨著越來(lái)越大的威脅。通過(guò)光學(xué)薄膜的方法發(fā)展的雷射防護(hù)技術(shù)是實(shí)現(xiàn)這些光學(xué)系統(tǒng)免受雷射武器傷害的有效途徑之一。在光學(xué)系統(tǒng)中，可以採(cǎi)用光學(xué)鍍膜的方法對(duì)光譜進(jìn)行選擇性透過(guò)，將雷射波長(zhǎng)過(guò)濾出去，使其不能進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部，系統(tǒng)可以免受傷害。